این روش شباهت زیادی به GPC[1] دارد با این تفاوت كه در این روش یك راكتور برای تولید نانوذرات استفاده می شود. این روش برای بهبود روش CVD ابداع شده و امكان كنترل بیشتر بر روی فرآیند تشكیل فیلم و افزایش همگنی ساختار ذرات نانو تولیدی را می دهد. مزایای این روش عبارتند از:

۱-كیفیت بهتر نسبت به CVD

۲- امكان تولید مخلوطی از ذرات نانو دو فازی با وارد كردن مواد اولیه در دو انتهای راكتور

۴-امكان تولید كربیدها، نیتریت ها، كامپوزیت ها و اكسید های پیچیده مانند BaTiO₄

۵- خواص و ساختار ماده تولیدی با این روش مشابه ساختار ماده تولیدی با روش GPC می باشد در حالتی كه سرعت این روش نسبت به GPC بیشتر می باشد.

۶ -امكان تولید ذرات نانو پوشش داده شده مانند:n-ZrO₂ پوشش داده شده با n-Al₂O₃ با وارد كردن مواد خام ثانویه در قسمت دوم راكتور.